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中国开始量产国产 DUV 光刻机 今年目标生产约 5 台中国已开始大规模生产自主研发的浸没式深紫外（ DUV ）光刻机

  1. 科技圈🎗在花频道📮
    中芯国际测试中国首台国产 DUV 光刻机 中芯国际正在试运行中国首台由上海初创公司宇量昇研发的先进深紫外（DUV）光刻机。这款设备大部分零部件已实现国产化，但仍有部分依赖进口。SMIC利用该机生产28纳米芯片，并尝试通过多重图形化工艺实现7纳米，甚至可在低良率下挑战5纳米。 目前，中国最先进的芯片仍依赖荷兰ASML的DUV设备，而EUV光刻机因美国出口管制被禁止对华销售。业内人士称，国产设备要实现量产和稳定良率至少需要一至两年，距离与ASML竞争仍有差距。中企目标在2026年前大幅扩产，国产光刻机最快或于2027年进入量产。…
    中国开始量产国产 DUV 光刻机 今年目标生产约 5 台

    中国已开始大规模生产自主研发的浸没式深紫外（ DUV ）光刻机。知情人士称，上海一家国企正推进量产，计划今年生产约 5 台、2027 年约 20 台，将交付中芯国际、华虹半导体等国内厂商。但该设备在性能和可靠性上仍落后于 ASML ，芯片商需数月甚至更长时间测试其精度与兼容性，方能投入量产产线。

    受此消息影响，ASML 股价一度跌超 6%。据悉，国产设备主要使用国产零部件，部分关键部件仍来自日本，且今年本地供应链延误已影响进度。业内认为，国产 DUV 短期内难以对 ASML 构成直接威胁，但产量持续增加可能逐步侵蚀其在中国市场的地位，尤其是在西方若收紧出口限制的情况下。

    The Information | Reuters | Bloomberg

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