同济大学毕业生演讲提及中国首台国产 ArF 浸没式光刻机交付，可支撑 7nm 制程
2025 年 5 月，由贺荣明团队自主研发的首台氟化氩（ArF）浸没式光刻机正式交付中芯国际。该设备搭配多重曝光工艺，可稳定支撑 7nm 及以上芯片制程生产，打破了国外在高端前道光刻设备领域的长期垄断。
团队自上世纪 80 年代起扎根上海张江，从零搭建自主技术体系，先后攻克精密光学、超精密运动控制等关键技术。其研发的先进封装光刻机国内市场占有率超 80%，国际占比 33%，位居全球前列。
同济大学（相关段落被移除） | 网易新闻（存档）
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2025 年 5 月，由贺荣明团队自主研发的首台氟化氩（ArF）浸没式光刻机正式交付中芯国际。该设备搭配多重曝光工艺，可稳定支撑 7nm 及以上芯片制程生产，打破了国外在高端前道光刻设备领域的长期垄断。
团队自上世纪 80 年代起扎根上海张江，从零搭建自主技术体系，先后攻克精密光学、超精密运动控制等关键技术。其研发的先进封装光刻机国内市场占有率超 80%，国际占比 33%，位居全球前列。
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