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深圳所建 ASML EUV 光刻机原型机无法运行 或为二手零件组装的“弗兰肯斯坦”式设备此前关于中国实验室成功逆向研发 ASML 极紫外 (EUV) 光刻机的传闻被曝出可能并不属实

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    中国深圳团队完成 EUV 光刻机原型机，挑战西方芯片技术垄断 路透社独家报道，中国科学家在深圳一处高度保密的实验室内，成功建造了一台极紫外光刻机（EUV）原型机，该设备能够生产用于人工智能、智能手机和军用武器的尖端半导体芯片。这台原型机于 2025 年初完工，目前正在测试阶段，占据了几乎整个工厂车间的空间。 该项目由前荷兰半导体巨头 ASML 的工程师团队通过逆向工程技术完成。虽然原型机已能成功产生极紫外光，但尚未制造出可用芯片。中国政府设定了 2028 年生产可用芯片的目标，但知情人士认为 2030…
    深圳所建 ASML EUV 光刻机原型机无法运行 或为二手零件组装的“弗兰肯斯坦”式设备

    此前关于中国实验室成功逆向研发 ASML 极紫外 (EUV) 光刻机的传闻被曝出可能并不属实。该原型机系由多种渠道获取的零散部件组装而成的“弗兰肯斯坦”式设备，目前无法运行，且未制造出任何芯片。

    EUV 技术高度依赖 Cymer 的光源系统、蔡司 (Carl Zeiss) 的精密光学镜片及复杂的集成软件。受出口管制影响，中国企业目前主要通过改装深紫外 (DUV) 光刻机提升产能，仍难以突破 EUV 技术壁垒。

    TechSpot

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