俄罗斯计划研发新型EUV光刻机，采用11.2纳米技术
俄罗斯公布了开发本国光刻机的路线图，旨在制造比 ASML 系统成本更低、更复杂的设备。 这些机器将使用波长为 11.2 纳米的激光器，而非 ASML 使用的标准波长 13.5 纳米。 这种波长与现有的 EUV 基础设施不兼容，需要俄罗斯开发自己的光刻生态系统，且未明确研发时间表和支持的工艺技术，这可能需要数年甚至十几年的时间。分析称该项目面临巨大技术和生态。计划分三阶段推进，最终实现每小时加工60片300毫米晶圆的能力。
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