数码闲聊站爆料称，一款即将量产的国产自研芯片将采用中芯国际的N+2 / N+3工艺，性能超越高通骁龙8+，目标性能定位在骁龙8 Gen2水平。
他表示虽然中芯国际没有EUV光刻机，但通过“DUV多重曝光”技术成功实现“等效5nm”，该芯片在能耗上有显著进步，但综合性能仍落后于高通即将推出的骁龙8 Gen4。
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